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    旋片真空泵在半導體工藝中的注意事項

    旋片真空泵真空度本來就很高,一般的工藝需求是完全可以滿足的,但如果針對半導體行業的話,它的真空度要求特別高,需要

    配真空機組才可以達到,旋片真空泵一般用作反應系統的前級泵,它與羅茨真空泵共同組成羅茨旋片真空機組,旋片泵能在

    60~100℃范圍內把各種不同的混合氣體壓縮到大氣壓并排放到排氣管中。如果泵內危害性產物的壓力、濃度、溫度都比較高,這

    些物質在泵及泵的附件內積存起來;這些物質在排汽管道內同周圍空氣相接觸等等,都會構成潛在的危險!   

    半導體制造使用或產生的有害氣體,必須采取合適的測量方法,以防止著火和爆炸,保證設備的正常運行,防止操作人員、維修

    人員及服務人員發生急性或慢性中毒。為了安全起見,應配備抽力足夠大的合適真空泵和附件,并要求采用合理的操作和維護方

    法,配備適當的監控裝置。

    由于旋片真空泵在半導體制造設備中的重要作用,所以我們從旋片泵正常工作的幾個條件入手,闡述一些安全工作的要素。這些

    具體事項都會在以下的幾篇文章中說明,請大家耐心等待!


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